Home   >   产品介绍   >   面板设备

面板设备

AP Plasma 常压等离子

一种干式Module,能去除基板表面的有机物,增加表面活性从而提高Wet工序的效率或提高黏着性。

Wet Station

适用工序

LCD
· 初期洗涤,蒸镀前,Etching前,Photo前洗涤器(Wet工序)
· Light Ashing(去除Photo Resist)
OLED
· Encapsulation等

优点

· 可根据客户要求开发反应机及定制工序

Equipment Sales Team : equipsales@kctech.co.kr